300D三源有机蒸发镀膜机

主要用途：

特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

系统组成:

主要由真空室系统蒸发室、蒸发源系统、样品台系统、 真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、膜厚测试 系统、电控系统组成。

技术指标：

极限真空度6.7×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa（短时间暴露 大气并充干燥氮气后开始抽气）

样品台：尺寸为4英寸平面样品；

蒸发源：3套

4套挡板系统：挡板共有3套，动密封手动控制；

气路系统:质量流量控制器1路

石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统

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钙钛矿镀膜设备

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！

设备用途 ：

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域

设备组成：

该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。

      1、镀膜室：方形前后开门结构，内带有防污板。

      2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；

      3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套

      4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；

      5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。

      6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?