脉冲激光沉积的优点

想了解更多关于脉冲激光沉积的相关资讯，请持续关注本公司。

1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；

3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；

4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性；

5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。

脉冲激光沉积系统特点及优势

可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供专业的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，；

如需了解更多脉冲激光沉积的相关内容，欢迎拨打图片上的热线电话！

脉冲激光沉积的基本系统由哪些组成？

腔室及真空泵

快速门，分子泵，全量程规

沉积源

靶台，6X1’’(25mm) 靶，可以水平旋转，

可Z方向移动

样品台

可加热至800oC（1000oC可选），可水平旋转，可Z方向移动

在线工艺监控

石英晶振沉积速率监控仪

想要了解更多沈阳鹏程真空技术有限责任公司的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话！