沈阳鹏程真空技术有限责任公司
电阻热蒸发镀膜 , 磁控溅射 , 激光脉冲沉积 , 电子束
激光脉冲沉积装置公司高性价比的选择 沈阳鹏程真空技术
发布时间:2020-07-09







脉冲激光沉积细节介绍

很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力(>100 Torr)下冷却是有利的。所有Pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。

Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。

为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。

我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离,对沉积条件进行较大的控制。

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激光脉冲沉积简介

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助。

脉冲就是隔一段相同的时间发出的波(电波/光波等等)等机械形式。激光脉冲指的是脉冲工作方式的激光器发出的一个光脉冲,简单的说,好比手电筒的工作一样,一直合上按钮就是连续工作,合上开关立刻又关掉就是发出了一个“光脉冲”。用脉冲方式工作有它的必要性,比如发送信号、减少热的产生等。激光脉冲能做到特别短,譬如“皮秒”级别,就是说脉冲的时间为皮秒这个数量级——而1皮秒等于一万亿分之一秒。如果您想要了解更多脉冲激光沉积的知识,欢迎拨打图片上的热线联系我们。



脉冲激光沉积系统(PLD)配置介绍

具体配置:

一, 超高真空腔体

二, 分子泵

三, 激光扫描系统

四, 衬底加热铂金片,可达1200度

五, 基板加热构造设计

六, 基板加热电源

七, Rheed

八, Rheed软件

九, 多靶位 ,标准配置6个靶

十, Load-Lock样品传输腔体

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