磁控溅射镀膜设备的主要用途

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。

1.各种功能性的薄膜镀膜。所镀的膜一般能够吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。

2.时装装饰领域的应用，比如说各种全反射镀膜以及半透明镀膜，可适用在手机外壳、鼠标等产品上。

3.微电子行业领域中，其是一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气象沉积上。

4.在光学领域中用途巨大，比如说光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻 璃和透明导电玻璃等方面得到应用。

5.在机械行业加工中，其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能够提供物品表面硬度从而提高化学稳定性能，能够延长物品使用周期。

自动磁控溅射系统概述

带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6'旋转平台，可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

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