脉冲激光沉积简介

随着现代科学和技术的发展，薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一，是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不仅具有丰富的物理内涵，而且在微电子、光电子、超导材料等领域具有十分广泛的应用。长期以来，人们发明了多种制膜技术和方法：真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属有机化学气相沉积、溶胶- 凝胶法等。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。上述方法各有特点，并在一些领域得到应用。但由于其各有局限性，仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。随着激光技术和设备的发展，特别是高功率脉冲激光技术的发展，脉冲激光沉积（PLD）技术的特点逐渐被人们认识和接受

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PLD 主要选件

离子辅助沉积 (IBAD)系统介绍

离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统，该系统将PLD 在沉积复杂材料方面的优势与IBAD 能力结合在一起。

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脉冲激光沉积选件介绍

激光分子束外延(Laser MBE )

激光MBE 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的PLD 与在线工艺监测的反射高能电子衍射（RHEED）的联合应用，用户提供了类似于MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。

正确的设计是成功使用RHEED 和PLD 的重要因数

RHEED 通常在高真空（<10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD 采用较高的压力，差动抽气是必要的，

维持RHEED 枪的工作压力，同时保持500 mTorr 的PLD 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。Neocera 的激光MBE 系统可以为用户提供在压力达到500 mTorr 时所需的单分子层控制。

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脉冲激光沉积系统的特点有哪些？

?  超高真空不锈钢腔体

?  可集成热蒸发源或溅射源

?  可旋转的耐氧化基片加热台

?  流量计或针阀准确控制气体流量

?  标准真空计?  干泵与分子泵

?  可选配不锈钢快速进样室

?  可选配基片-靶材距离自动控制系统

?  是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的较佳设备

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