CK600磁控溅射镀膜机厂给您好的建议
发布时间:2020-07-18
自动磁控溅射系统概述
带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,大到6'旋转平台,可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
带有14”立方形不锈钢腔体,4个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。
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磁控溅射系统介绍
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真空泵和测量装置:
低真空:干泵和convectron真空规
高真空:涡轮分子泵,低温泵和离子规
5.控制系统:
硬件:PLC和计算机触摸屏控制
自动和手动沉积控制
主要特点:
射频电源:基底预先清洗和等离子体辅助沉积
温度控制器:基底加热
大面积基底传送装置
冷却系统
镀膜时样品中间会不均匀什么原因?
途中主要表述是溅射过程中,物质的动向图。并没有磁控条件限制。
顶部是靶材/阴极;中间为辉光区域;底部是溅射基体。
靶材和辉光之间为电压降区域,给正离子提供足够能量的电场,正离子加速轰击到靶材上,使靶材的物质溅射出来,沉积到基体上(两侧的长线);负离子、电子保持在辉光区,轰击气体原子。
辉光区发射出电子、离子、中性原子、光子等,这些组成等离子体(宇宙99%以上的组成物质为等离子体)
辉光和基体之间电压降很小。
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