天津钙钛矿热蒸发镀膜机价格值得信赖

OLED有机无机联合蒸发系统介绍

以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产电阻热蒸发镀膜产品，欢迎新老客户莅临。

OLED有机无机联合蒸发系统的用途 ：

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。Parylene在传感器领域中的应用，除了作绝缘介质外，更多用作防护材料，它能耐酸、碱和溶剂，对水汽和盐雾等恶劣环境有较好的阻隔防护能力，用极薄的涂层提供良好的防护。与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域

钙钛矿镀膜设备

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！

设备用途 ：

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域

设备组成：

该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。

      1、镀膜室：方形前后开门结构，内带有防污板。

      2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；

      3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套

      4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；

      5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。

      6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?

电阻蒸发镀膜机介绍

通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史Zui悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

在高真空下，采用电阻式蒸发原理，利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料，使其在高温下熔化蒸发，从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oC的金属薄膜的制备。

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派瑞林镀膜工艺介绍

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派瑞林镀膜工艺，是一种气相沉积CVD的镀膜方式。其工艺过程如下：首先固态的派瑞林原料在蒸发腔内随着温度的升高逐渐吸热升华；升华后的二聚体气体进入裂解腔，在680℃左右的温度下，二聚体的分子键被断开，形成具有两个悬空键的活性Parylene单体；如果加热速度慢，相当于样品在一系列温度下渐次分解，使分解过程复杂化(包括许多副反应)，谱图的特征性和重复性就差。Parylene单体被送到室温的真空沉积室里，在工件表面进行聚合沉积，形成一层致密的保护膜层。