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多源有机无机蒸发?系统全自动钙钛矿蒸发镀膜机厂家

多源有机无机蒸发系统

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主要用途：

用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。

系统组成:

由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。

技术指标：

极限真空度5.0×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm 

样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；

电极：数量：4支水冷结构；直径Φ20㎜

样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃

4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套， 样品挡板（1套）

石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999? 

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。

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300C有机无机联合蒸发

用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。 　　

该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。 　　

极限真空度：≤6.7×10 Pa 　　

恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 　　

系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 　　

真空室：Ф400 x400mm圆筒型真空室 ， 　　

蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。 　

蒸发温度：加热温度：室温～1800℃； 　　

蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）； 　　

工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20 转/分钟，转速可调；样品托盘可摆角，角度在0～30度可调； 　　

烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃） 　　

电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对 　　

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派瑞林裂解仪的技术参数

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1.加热方式 ：居里点式高频诱导加热

2.样品管 ：石英管、内径4.5mm （热裂解室）

3.保温炉 ：室温至 200摄氏度

4.热裂解时间 ：1秒~99秒

5.保温传输管 ：室温至300摄氏度 管长0.7m

6.高周波功率 ：48 W

7.流路切换 ：电磁阀

8.尺寸(mm)?重量 ：305(W)×190(H)×465(D)mm?18Kg

9.电源 ：AC100V?7A

10.兼容GC ：所有GC（特殊型号除外）

11.可选居里点热箔片裂解温度：1040、920、764、740、670、650、590、500、485、445、423、386、358、333、315、280、255、235、220、170、160℃。