激光脉冲沉积设备 沈阳鹏程真空技术公司

脉冲激光沉积的应用领域

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。

应用领域：

单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）

压电薄膜（PZT，AlN，激光脉冲沉积设备哪家好，BiFeO3，BaTiO3）

铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）

热电薄膜（SrTiO3）

金属和化合物薄膜电极（Ti，激光脉冲沉积设备，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）

半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）

高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，激光脉冲沉积设备报价，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）

超导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）

光波导，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）

超疏水薄膜（PTFE）

红外探测薄膜（V2O5，PZT）

脉冲激光沉积选件介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——生产、销售脉冲激光沉积，我们公司坚持用户为上帝，想用户之所想，急用户之所急，以诚为本，激光脉冲沉积设备多少钱，讲求信誉，以产品求发展，以质量求生存，我们热诚地欢迎各位同仁合作共创。

连续组成扩展(CCS )

常规沉积条件下的组合合成

组合合成是一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(CCS) 方法。PLD-CCS 系统能以连续的方式改变材料，没有必要使用掩模。可以在每一次循环中，以小于一个单分子层的速率，快速连续沉积每一种组份，其结果是基本等同于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。

脉冲激光沉积选件介绍

激光分子束外延(Laser MBE )

激光MBE 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的PLD 与在线工艺监测的反射高能电子衍射（RHEED）的联合应用，用户提供了类似于MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。

正确的设计是成功使用RHEED 和PLD 的重要因数

RHEED 通常在高真空（<10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD 采用较高的压力，差动抽气是必要的，

维持RHEED 的工作压力，同时保持500 mTorr 的PLD 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。Neocera 的激光MBE 系统可以为用户提供在压力达到500 mTorr 时所需的单分子层控制。

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